Get the latest price?

Știri din industrie

  • Noua tehnologie de lustruire SiC crește eficiența de 10 ori!

    O echipă de cercetare de la Universitatea Ritsumeikan din Japonia a dezvoltat o nouă tehnologie de lustruire electrochimică mecanică (ECMP), realizând o rată de îndepărtare a materialului de aproximativ 15 μm/h, îmbunătățind semnificativ lustruirea SiC.

    11-07-2024
Obțineți cel mai recent preț? Vom răspunde cât mai curând posibil (în maxim 12 ore)

Politica de Confidențialitate